Участники проекта:
- Индустриальный партнер - ООО «НПК Алмаз». Компания является мировым лидером по производству алмазов весом свыше 70 карат, на нее приходится 80% такого рода продукции, выпускаемой в мире, и обеспечивающей высокую производительность за счет одновременного выращивания нескольких крупных кристаллов общей массой от 100 карат и выше. Алмазные пластины, полученные из НРНТ-кристаллов, являются основой для нанесения методом CVD (chemical vapour deposition) алмазных эпитаксиальных слоев для получения алмазных подложек, которые являются основой более эффективной электронно-компонентной базы нового поколения для электроники.
- Научные предприятия (АО «ВНИИАЛМАЗ», Институт физики высоких давлений им. Л.Ф. Верещагина РАН, Санкт-Петербургский государственный университет «ЛЭТИ»)
Основные направления:
Производство планируется на территории промышленной площадки города Карабаново на площади 36 га: здания и сооружения (склады, здание управления и др.) общей площадью порядка 160 тыс. кв. м; внутренние железнодорожные пути протяженностью 3,6 км. Площадка расположена в 100 километрах от Москвы.
В основе производства лежат разработки компании и результаты НИОКР, а именно: оборудование для производства алмазного сырья методом НРНТ, оборудование для производства алмазного сырья методом CVD, обработка Epi-Ready для нанесения эпитаксиального слоя CVD, производство теплоотводов, производство алмазных гибридов (алмаз – карбид кремния и т.д.) и электронная компонентная база нового поколения.
Отраслевые рынки ЭКБ нового поколения: аэрокосмическая техника, ядерная техника, радары и инфокоммуникационные системы, радиофотоника, нефтегазодобывающая индустрия, химическое машиностроение, электроэнергетика, медицинская техника.
- Индустриальный партнер - ООО «НПК Алмаз». Компания является мировым лидером по производству алмазов весом свыше 70 карат, на нее приходится 80% такого рода продукции, выпускаемой в мире, и обеспечивающей высокую производительность за счет одновременного выращивания нескольких крупных кристаллов общей массой от 100 карат и выше. Алмазные пластины, полученные из НРНТ-кристаллов, являются основой для нанесения методом CVD (chemical vapour deposition) алмазных эпитаксиальных слоев для получения алмазных подложек, которые являются основой более эффективной электронно-компонентной базы нового поколения для электроники.
- Научные предприятия (АО «ВНИИАЛМАЗ», Институт физики высоких давлений им. Л.Ф. Верещагина РАН, Санкт-Петербургский государственный университет «ЛЭТИ»)
Основные направления:
- микро и наноэлектроника;
- оптика;
- лазерная техника;
- обрабатывающая промышленность;
- медицина;
- ювелирные изделия.
Производство планируется на территории промышленной площадки города Карабаново на площади 36 га: здания и сооружения (склады, здание управления и др.) общей площадью порядка 160 тыс. кв. м; внутренние железнодорожные пути протяженностью 3,6 км. Площадка расположена в 100 километрах от Москвы.
В основе производства лежат разработки компании и результаты НИОКР, а именно: оборудование для производства алмазного сырья методом НРНТ, оборудование для производства алмазного сырья методом CVD, обработка Epi-Ready для нанесения эпитаксиального слоя CVD, производство теплоотводов, производство алмазных гибридов (алмаз – карбид кремния и т.д.) и электронная компонентная база нового поколения.
Отраслевые рынки ЭКБ нового поколения: аэрокосмическая техника, ядерная техника, радары и инфокоммуникационные системы, радиофотоника, нефтегазодобывающая индустрия, химическое машиностроение, электроэнергетика, медицинская техника.